X系列為楔塊式單向離合器,無內(nèi)外圈,由雙保持架保持楔塊,選用時必須與客戶按技術要求設計的內(nèi)外圈相配合,并附加滾動軸承支撐軸向和徑向負載。楔塊在保持架及彈性元件作用下沿圓周均勻分布,當加載時,楔塊同時動作,扭矩平均分布,因此在苛刻的條件下,也能發(fā)揮超越離合的作用。由于楔塊的曲率比滾柱的曲率大,裝入量多,所以比同尺寸的滾柱離合器扭矩容量大。楔塊式用耐磨性好的材料經(jīng)精加工成型。在外圈旋轉時,使用嚙合型楔塊,故空轉時摩擦損失減少到*,空轉與嚙合的變化,使楔塊與內(nèi)外圈接觸位置也相應變化,延長了壽命。公司可提供標準式的內(nèi)外圈。若客戶自行制造,軸及外圈應經(jīng)過硬化處理,*終達到硬度為HRC60-62,硬化層深度需≥0.6mm。接觸面內(nèi)部硬度為HRC35-45,接觸面*允許傾斜度為:≤0.007mm/25mm。工作面粗糙度需≤Ra0.8um。我公司可根據(jù)客戶要求定制內(nèi)外圈結構,歡迎咨詢。 |
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